10nm工藝節(jié)點(diǎn)即將大規(guī)模普及，同時(shí)這也意味著我們很快進(jìn)入7nm階段，不過(guò)，7nm的技術(shù)挑戰(zhàn)已不可同日而語(yǔ)，其中的關(guān)鍵就是EUV（極紫外）光刻機(jī)。

其中，荷蘭ASML（阿斯麥）在當(dāng)今高端沉浸式光刻機(jī)中占據(jù)80%的份額，是絕對(duì)的龍頭。

昨天晚些時(shí)候，阿斯麥也公布了財(cái)報(bào)數(shù)據(jù)，Q1凈營(yíng)收為19.4億歐元，毛利率47.6%，而它們所做的一切，不過(guò)是賣(mài)出數(shù)十臺(tái)光刻機(jī)而已。

其中主要包含三部分，分別是深紫外光（DUV）微影、全方位微影（Holistic Lithography）和極紫外光（EUV）微影，前者用于10nm量產(chǎn)和7nm的研發(fā)，迄今累計(jì)裝機(jī)60多臺(tái)。

而最高端的EUV光刻機(jī)，僅僅在Q1晚些時(shí)候出貨了第一臺(tái)NXE：3400B，而收到的訂單已經(jīng)累計(jì)21臺(tái)，總價(jià)值23億歐元，單價(jià)超1億歐，媲美一架F35戰(zhàn)斗機(jī)。

這第一臺(tái)的客戶如無(wú)意外應(yīng)該就是Intel，而后者目前用的最多的還是前一代EUV系統(tǒng)NXE 3350B，即使這樣，全球也才部署了6套而已，供不應(yīng)求。